세륨 깊은 강저 광석 드레싱 장비 고정 체 지그 및 진동체 스크린 공장 가격

선광 장비 고정체지그

지그는 텅스텐과 같은 금속 원광을 분리하기 위한 적당한 고정된 망체형이고 금을 함유한 플레이서와 주석 정광입니다. 그것은 좋고 거친 소재를 분리해서 사용될 수 있습니다. 최대 전송 크기는 6-8 밀리미터이지만, 그러나 분리된 플레이서의 경우에, 최대 크기가 12 밀리미터입니다.

지그의 작업 원칙 :

지그는 심구형 선택적 장비에 속합니다. 모든 지그는 지그 챔버를 가지고 있습니다. 아기타팅 수류 움직임을 위한 연기 메커니즘과 제품 방전용 메커니즘. 지깅 공간에서 체판은 천공된 강철판, 꼰 철 화면 또는 그레이트로 만들어집니다. 물이 체판을 통하여 지깅 방에 들어갈 때, 침대는 매우 높게 일어나고 조금 느슨하지 않아야 합니다. 고밀도와 입자가 지역 압력과 고정 속도 때문에 바닥층에 들어가는 반면에, 저밀도와 입자는 상위 계층으로 전송합니다. 흐름이 떨어질 때, 고밀도와 미세 입자는 또한 점진적으로 소형 베드 제거를 통하여 하위 계층에 들어갈 수 있습니다. 피스톤실은 연초에 지깅 방에서 옆에 위치합니다. 하부는 연결되고 이상한 커넥팅 로드 기구가 위 아래로 피스톤을 운전합니다.

지그 선광은 수채형 콘베어 분리 작동에 속합니다.

그것은 물을 선광 매체로 이용하고, 분리되기 위해 맥석에서 선별적 미네랄의 비중차를 사용합니다. 지그는 다이어프램형에 속합니다. 타격과 타격은 선별적 광물의 비중에 따라 유연하게 조정될 수 있습니다. 그것은 넓게 텅스텐, 주석, 충적 광상 금, 적색 철, 갈색인 철, 망간, 티타늄과 안티몬에서 사용됩니다. 리드, 탄탈과 니오븀의 중력 선광.

지그의 많은 유형이 있습니다.

AM30 지그는 거대 입자 지그에 속합니다. 그것은 넓게 텅스텐, 주석, 충적 광상 금, 적철광, 갈색인 철, 망간, 티타늄, 안티몬, 납, 탄탈, 니오븀과 다른 금속의 중력 선광에서 사용됩니다. 그것은 사용자의 요구조건에 따라 LTP34/2, LTA55/2, LTA1010/2, LTC-69/2, 2LTC79/4와 2LTC-912/4 지그를 생산할 수 있습니다.

부등변 4각형 지그 6109는 시간마다 20-30T의 능력을 가집니다.

넓게 에너지를 절약하고 미세 입자와 광물의 복구를 개선하면서, 톱니파 JT1070-2 지그는 세이빙 물의 그것의 장점 때문에 텅스텐, 주석과 금에서 사용됩니다.

철, 망간, 티타늄, 테크네튬, 크롬, 유황과 다양한 불순물 용융제련 광재로부터의 금속의 추출.

LTA-1010/2 지그는 주로 텅스텐, 주석과 안티몬광의 선광을 위해 사용됩니다.

LTP34/2 지그는 넓게 텅스텐, 주석, 금, 철, 납, 아연과 망간과 같은 지깅과 중금속류의 선광을 위해 사용됩니다.

두배 버킷 다이어프램 지그는 두 유형으로 분할될 수 있습니다 : 죄측 지그와 우측 지그. 지그는 고정식 채격자입니다. 그것은 텅스텐과 금을 함유한 플레이서와 같은 금속 원광, 주석 정광, 기타 등등을 분리하는데 적합합니다. 그것은 좋고 거친 소재를 분리해서 사용될 수 있습니다. 최대 전송 크기는 6-8 밀리미터이지만, 그러나 분리 플레이서의 경우에, 최대 크기가 12 밀리미터입니다.

구조와 사용 지시

LTS300 *450 두배 양동이 다이어프램 지그의 구조는 기체, 송신 장치, 물 분리기, 진동판과 이동형 플러그로 구성됩니다. 신체는 다른 크기의 2마리의 메뚜기를 가지고 있습니다. 각각 진동판 버킷은 막연한 진동판으로 지깅 구역과 진동판 구역으로 분할됩니다. 지그 공정법은 고무 격막의 왕복 운동에 의해 초래된 매체 (물)의 흥분에 의해 실행됩니다. 모터는 삼각 벨트를 통하여 회전하기 위해 큰 도르래를 운전하여서, 편심 축선 위의 연결봉이 오르락내리락 하고 또한 연결봉으로 연결된 로커암이 오르락내리락 합니다. 진동판이 왕복 운동과 지깅을 위 아래로 얻을 수 있도록, 고무 격막을 연결시키기 위한 로커암 위의 2 연결봉이 있습니다.

처리된 금의 입자 크기에 따르면, 연결봉의 타격은 바뀔 수 있고 다른 수영법이 최고 지깅 효과를 획득하기 위해 선택될 수 있습니다. 펀치를 바꾸는 방법은 작은 벨트 바퀴를 바꾸는 것입니다. 2 종류의 펀치가 있습니다 : 1분에 322 번과 420 번 1분에. 편심 축선 사이에 이상한 조정 슬리브와 상대적 위치를 회전시키면서, 11 다른 수영법 (0-25.3mm)는 위치 결정 핀을 빼내면서, 고정된 나사 및 너트를 늦채서 선택될 수 있습니다.

분급기가 일하는 분급기에 추가되기 때문에, 지그는 재료를 평탄하지 않은 입자 크기로 처리하는데 사용될 수 있습니다. (주목하세요 : 이 스크린은 원광석이 진동판의 드럼 행동 때문에, 지그 챔버로 보내지는 후에 명령을 위한 요구조건에 따라 공급될 수 없습니다), 광석 입자가 매체에서 비중에 따라 계층화됩니다 ; 좋고 무거운 광석 입자는 인공 침대 입자의 더 갭과 체 구멍을 통하여 지그 메뚜기의 상위이고 중간층에 침적되고 조잡하고 가벼운 광석 입자 (광물)이 매체 플로우에 의해 스크린에 씻겨집니다. 뒤지구 방의 위치가 프론트 지그 방의 그것보다 낮은 50 밀리미터이기 때문에, 다시 지그춤을 추는 빛 광석 입자는 프론트 챔버 이 담긴 꼬리 부분 판을 통하여 넘치고, 배면 챔버에 들어갑니다. 꼬리 부분 판의 위치는 금 방출의 크기를 조절할 필요성에 따라 조정될 수 있습니다. 저장 버킷에서 정광은 방출관에 의해 정기적으로 방출됩니다.

다이어프램 지그의 타입

지그는 예를 들어 진동판 설치의 위치에 따라, 다른 기준에 따라 다른 유형으로 분할될 수 있습니다.

(1) 평행한 다이어프램 지그 (예를 들어 LTP34/2 지그)

(2) 하향 다이어프램 지그 (예를 들어 LTA1010/2가 지그춤을 춥니다, JT1070/2가 지그춤을 춥니다)

(3) 사이드 무빙 다이어프램 지그 (예를 들어 2LTC-6109/8T 지그)

톱니파 지그 상술과 상세 매개 변수는 다음과 같습니다 :

톱니파 지그는 중력 선광을 위한 키 장비 중 하나입니다. 그것은 넓게 큰 처리 용량, 넓은 입자 크기 범위, 높은 회복과 좋은 효과 때문에 충적 광상 금, 주석, 텅스텐, 납, 아연, 안티몬, 망간, 다이아몬드, 철광석과 같은 비철성 비철 야금술 광산과 다른 비철성 비철 야금술 광산과 채금선에서 사용됩니다. 이런 종류의 제품에서의 JT4-2와 JT1.5-2 톱니파 거대 입자 지그는 금에게 30MM의 최대 입자 크기를 공급할 수 있고, 분급기 업과 분급기 우여곡절을 통하여 방출됩니다. 중정석, 망간 광석, 철광석과 다른 철광석의 선광에 적용되어 그것은 분급기 하에 철광석 공급의 넓은 크기 범위와 상수도의 주목할 만한 감소라는 유리한 입장에 있습니다.

전통적 지그는 대부분 완곡한 원형에 의해 가동되고 그들의 지글링 진동 곡선이 대부분 정현파 모양입니다. 다이어프램 이동에 의해 생산된 상승하고 떨어지는 물 유동 속도와 액션 시간이 근본적으로 똑같은 것 이기 때문에, 그러므로 장비의 이탈 비와 회수율에 영향을 미치면서, 비중에 따라 지깅 베드와 광석 입자 열성층을 푸는 것은 도움이 되지 않습니다.

톱니파 지그는 조태 베트 이론의 계층화 법칙에 따른 전통적 지그를 기초로 하여 개발되고 향상된 일종의 에너지 절약형 중력 분리 기구부입니다. 그것의 지그 진동 곡선은 소투스, 그것이 하강수 보다 더 빠르게 상승수를 만듭니다 : 상승 시각과 긴 내려가는 시간을 단락시키세요 ; 그것은 정현파를 넘어서고, 풀세이팅 곡선 지그를 생산합니다. 똑같은 상승하고 떨어지는 수류와 액션 시간의 결점은 베드의 느슨한 도를 강화하고, 흡입 효과를 완화하고, 미네랄에서 무거운 광석 입자가 완전히 안정되게 하고 매우 장비의 이탈 비와 회수율을 향상시킵니다. 정현파 지그와 비교해서, 그것은 각각 증가합니다 : 스킨 3.01%, Ｗ 5.5%, Pb 1.63%, 아연 2.04% ; 물 사용량은 30%-40%까지 감소하고, 점유 면적이 1/3까지 감소하고, 타격이 조정될 수 있습니다. 운전하기 위한 전자기 조정하는 모터의 사용 때문에, 충동은 비단계적으로 조정될 수 있습니다. 그것의 성능은 중국에서 고급 레벨을 이르렀고 그것이 요즈음 이상적 에너지 절약형 중력 분리 기구부 중 하나입니다.

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